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簡(jiǎn)要描述:中圖儀器WD4000晶圓膜厚測(cè)量機(jī)非接觸+三維微納形貌一體測(cè)量,賦能超精密加工檢測(cè)。1臺(tái)設(shè)備搞定厚度、三維形貌、粗糙度全參數(shù)測(cè)量,告別多設(shè)備繁瑣配合,兼顧高精度與高效率,適配多行業(yè)超精密檢測(cè)需求。
產(chǎn)品分類
Product Category詳細(xì)介紹
| 品牌 | 中圖儀器 | 產(chǎn)地 | 國(guó)產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 加工定制 | 否 |
中圖儀器WD4000晶圓膜厚測(cè)量機(jī)——非接觸+三維微納形貌一體測(cè)量,賦能超精密加工檢測(cè)。

核心價(jià)值:1臺(tái)設(shè)備搞定厚度、三維形貌、粗糙度全參數(shù)測(cè)量,告別多設(shè)備繁瑣配合,兼顧高精度與高效率,適配多行業(yè)超精密檢測(cè)需求。
1、非接觸測(cè)量:避免劃傷碳化硅、藍(lán)寶石、硅等精密工件表面,保護(hù)待測(cè)物完整性。
2、一體集成設(shè)計(jì):無(wú)需多臺(tái)設(shè)備切換,同步完成厚度、TTV、LTV、BOW、WARP、粗糙度及三維形貌測(cè)量,節(jié)省場(chǎng)地與投入成本。
1、高精度測(cè)量,數(shù)據(jù)可靠
(1)光譜共焦對(duì)射技術(shù)+白光干涉技術(shù),Z向分辨率達(dá)0.1nm,亞納米級(jí)局部高度測(cè)量,滿足納米到微米級(jí)工件檢測(cè)需求。
(2)支持SEMI/ISO/ASME/EUR/GBT四大標(biāo)準(zhǔn)300余種參數(shù)評(píng)價(jià),測(cè)量結(jié)果可追溯。
2、大行程高速,適配多規(guī)格工件
(1)400x400x75mm大行程龍門結(jié)構(gòu),最大移動(dòng)速度500mm/s,檢測(cè)效率翻倍。
(2)兼容最大12寸晶圓,搭配靜電放電涂層真空吸盤,適配光滑/粗糙、低/高反射率等多種表面工件。
3、穩(wěn)定抗干擾,操作無(wú)憂
(1)花崗巖基座+隔振設(shè)計(jì),抵御地面與聲波振動(dòng),測(cè)量重復(fù)性優(yōu)異。
(2)雙重防撞+電動(dòng)物鏡切換+XYZ操縱手柄,簡(jiǎn)化操作流程,降低誤操作風(fēng)險(xiǎn),減少培訓(xùn)成本。
4、智能自動(dòng)化,適配工業(yè)流水線
(1)Mapping跟隨技術(shù)+機(jī)器視覺(jué)Mark點(diǎn)定位,支持多點(diǎn)、線、面自動(dòng)測(cè)量,CNC模式兼容掃碼槍輸入。
(2)虛擬夾具擺正樣品,可實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)形貌連續(xù)自動(dòng)化檢測(cè),適配批量生產(chǎn)場(chǎng)景。
1、全功能測(cè)量與分析
(1)覆蓋厚度、三維形貌、粗糙度、幾何輪廓等核心測(cè)量需求,支持臺(tái)階高、角度、曲率等特征量測(cè)及形位公差評(píng)定。
(2)內(nèi)置五大分析模塊,含ISO標(biāo)準(zhǔn)全參數(shù)粗糙度分析、孔洞體積統(tǒng)計(jì)、頻率分析等,滿足深度檢測(cè)需求。
2、高效數(shù)據(jù)管理
(1)集中管理測(cè)量記錄,支持按工件型號(hào)、檢測(cè)日期、識(shí)別碼等多維度查詢,追溯便捷。
(2)支持TXT報(bào)表導(dǎo)入待測(cè)點(diǎn)位,無(wú)需手動(dòng)錄入,提升檢測(cè)效率。
3、靈活輸出與對(duì)接
(1)輸出Excel/Word/TXT/SPC報(bào)表,附帶Mapping圖、控制圖及CA/PPK/CPK等統(tǒng)計(jì)值,滿足質(zhì)量管控需求。
(2)兼容SECS/MES傳輸,支持定制遠(yuǎn)程數(shù)據(jù)對(duì)接,無(wú)縫融入工廠現(xiàn)有生產(chǎn)系統(tǒng)。

WD4000晶圓膜厚測(cè)量機(jī)可用于襯底制造、晶圓制造、封裝工藝檢測(cè)、3C電子玻璃屏及精密配件、光學(xué)加工、顯示面板、MEMS器件等超精密加工領(lǐng)域。
| 品牌 | CHOTEST中圖儀器 |
| 型號(hào) | WD4000系列 |
| 測(cè)量參數(shù) | 厚度、TTV(總體厚度變化)、BOW、WARP、LTV、粗糙度等 |
| 可測(cè)材料 | 砷化鎵、氮化鎵、磷化鎵、鍺、磷化銦、 鈮酸鋰、藍(lán)寶石、硅、碳化硅、氮化鎵、玻璃、外延材料等 |
| 厚度和翹曲度測(cè)量系統(tǒng) | |
| 可測(cè)材料 | 砷化鎵 ;氮化鎵 ;磷化 鎵;鍺;磷化銦;鈮酸鋰;藍(lán)寶石;硅 ;碳化硅 ;玻璃等 |
| 測(cè)量范圍 | 150μm~2000μm |
| 掃描方式 | Fullmap面掃、米字、自由多點(diǎn) |
| 測(cè)量參數(shù) | 厚度、TTV(總體厚度變 化)、LTV、BOW、WARP、平面度、線粗糙度 |
| 三維顯微形貌測(cè)量系統(tǒng) | |
| 測(cè)量原理 | 白光干涉 |
| 干涉物鏡 | 10X(2.5X、5X、20X、50X,可選多個(gè)) |
| 可測(cè)樣品反射率 | 0.05%~100 |
| 粗糙度RMS重復(fù)性 | 0.005nm |
| 測(cè)量參數(shù) | 顯微形貌 、線/面粗糙度、空間頻率等三大類300余種參數(shù) |
| 膜厚測(cè)量系統(tǒng) | |
| 測(cè)量范圍 | 90um(n= 1.5) |
| 景深 | 1200um |
| 最小可測(cè)厚度 | 0.4um |
| 紅外干涉測(cè)量系統(tǒng) | |
| 光源 | SLED |
| 測(cè)量范圍 | 37-1850um |
| 晶圓尺寸 | 4"、6"、8"、12" |
| 晶圓載臺(tái) | 防靜電鏤空真空吸盤載臺(tái) |
| X/Y/Z工作臺(tái)行程 | 400mm/400mm/75mm |
懇請(qǐng)注意:因市場(chǎng)發(fā)展和產(chǎn)品開(kāi)發(fā)的需要,本產(chǎn)品資料中有關(guān)內(nèi)容可能會(huì)根據(jù)實(shí)際情況隨時(shí)更新或修改,恕不另行通知,不便之處敬請(qǐng)諒解。
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